Zmena teploty navíjania môže spôsobiť, že za tepla valcovaný pás ocele rekryštalizuje veľkosť zrna, množstvo nánosov a morfológiu, čo spôsobí zmenu mechanických vlastností.Dokončovacia teplota valcovania musí zvýšiť teplotu navíjania, spôsobuje, že rekryštalizované zrná sa zväčšujú, maximálna výťažnosť, pevnosť v ťahu klesá, teplota navíjania je dôležitým faktorom ovplyvňujúcim pevnosť valcovania za tepla valcovaného oceľového plechu, výrobu a rozšírenie, tj materiál tiež ovplyvňuje spracovateľnosť prísne riadenie a kontrola, je potrebná pre teplotu navíjania.

Riadenie teploty navíjania po dokončení riadenia chladiaceho systému valcovacieho pásu.Riadenie chladiaceho systému pri skutočnej výrobe určuje nielen presnosť dĺžky pásu pri teplote navíjania, ale aj na hlave pásu má väčší vplyv najmä stabilita chodu tenkého pásu vo výstupných valcoch.

Účelom chladenia laminárneho prúdenia oceľového pásu valcovaného za tepla je ochladzovanie z konečnej teploty valcovania na vopred stanovenú teplotu navíjania.Myšlienkou riadenia laminárneho chladiaceho systému je určiť kritickú povrchovú teplotu, pri rovnakej teplote nad hustotou vody dosiahne kritickú hodnotu, takže rýchle ochladenie;potom sa riedky spôsob postrekovača alebo chladenie vzduchom tak, aby pás výmeny tepla vnútri a vonku, aby sa dosiahlo rovnomerné chladenie;Nakoniec sa podľa nameranej teploty pásu ochladilo jemné nastavenie, aby sa dosiahla teplota navíjania v prípustnom rozsahu tolerancie.Okrem toho je uniformný a noste ho so stabilizačným systémom, aby sa vyzliekol výkon po celej dĺžke hlavy pásu, stred chvosta poskytuje rôzne režimy chladenia.

Hardvér na reguláciu teploty cievok a vylepšenia systému
(1) vylepšené chladiace zariadenie s laminárnym prúdením, hrubé až jemné ladenie, aby sa ďalej zlepšila presnosť riadenia.
(2) usporiadaný vo forme chladiaceho zariadenia s laminárnym prúdením bol vylepšený, aby sa zvýšila regulácia spätnoväzbového riadenia pre pohyb do určitej polohy, aby sa zvýšil medziľahlý teplomer.
(3) v riadiacom systéme sa prírastok počítača, ktorý sa používa výlučne na riadenie cyklu riadenia laminárneho chladenia, ďalej skracuje (1s) a prispieva k ďalšiemu vývoju riadiaceho modelu a riadiaceho softvéru.